🧪 아노다이징 피막두께 계산기

전류밀도

A/dm²

양극산화 처리 시간

분

피막 성장 보정계수 (실측 기준, 기본 100)

목표 피막 두께 (선택 입력)

µm

아노다이징 피막두께 계산 방법

황산욕 양극산화의 피막은 흘린 전기량에 비례해 자라므로 전류밀도와 시간만 알면 두께를 예측할 수 있습니다. 현장에서 널리 쓰이는 근사식은 피막두께(µm) = 0.33 × 전류밀도(A/dm²) × 시간(분)입니다. 미국 도금 현장의 이른바 720 법칙(두께 mil = ASF × 분 ÷ 720)과 같은 식을 단위만 바꿔 쓴 것으로, 12 ASF로 60분이면 1 mil, 즉 약 25 µm가 나옵니다.

두께 규격은 국내에서도 널리 인용되는 MIL-A-8625 기준을 참고합니다. Type II 일반 황산 양극산화는 대체로 5~25 µm(0.0002~0.001 in) 범위를 쓰고, Type III 경질 양극산화는 별도 지정이 없으면 50 µm(0.002 in)를 기준으로 삼는 경우가 많습니다. 실제 요구 두께와 등급·색상 구분은 도면과 발주 사양을 따르세요.

치수 관리에서 중요한 점은 피막이 소재 안쪽으로 절반, 바깥쪽으로 절반씩 생긴다는 것입니다. 그래서 한 면의 바깥 치수는 두께의 절반만큼 커지고, 축 지름이나 판 두께처럼 양면이 처리되는 치수는 피막 두께만큼 커집니다. 끼워맞춤 공차가 빡빡한 부위는 이 증가분을 미리 빼고 가공해야 합니다.

자주 묻는 질문

계산값과 실측 두께가 다른 이유는 무엇인가요?

욕 온도와 알루미늄 합금 계열이 크게 영향을 줍니다. 온도가 높으면 피막이 녹으며 성장률이 떨어지고, 구리 함량이 높은 2000계열은 성장이 더딥니다. 실측 두께로 보정계수를 조정해 쓰세요.

경질 양극산화도 같은 식으로 계산되나요?

기본 성장 관계는 같지만 저온·고전압 조건이라 전류밀도를 2~4A/dm² 수준으로 높게 씁니다. 두께가 두꺼워질수록 실제 성장률이 떨어지는 경향이 있으므로 보정계수로 반영하는 것이 좋습니다.

아노다이징 피막두께 계산 방법

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